直流冷阴极二极管型,靶材为常温,负高压1-3kv,阳极接地。当高压打开时,阴极发射电子,电子能量增加到1-3kev,轰击低真空(3-10pA)中的气体使其电离。激发的电子在电场中加速,并继续轰击气体以产生级联电离,形成等离子体。离子以1-3kev的能量轰击阴极靶。
当它们的能量高于目标原子的结合能时,目标原子或原子簇脱离目标并与等离子体中的残余气体碰撞。因此,它们有不同的方向。当它们落在样品表面上时,它们可以在粗糙的样品表面上形成厚度均匀的金属膜,并且与样品具有高的结合强度。如果腔室中的气体继续流动并且压力保持恒定,则此时的离子电流保持恒定。高压的功率决定了最大离子电流,其通常被限制以保护高压电源。
离子溅射仪的系统特点:
1、内置过电流和真空保护,当溅射电流过高或真空度差时自动中断,非常可靠和安全。
2、微调阀的灵敏度相当高,可以精确控制气体流量。
3、目标组件采用翻盖式设计,操作简单方便。
4、内置用户指南和手册,用户操作非常方便。
5、离子溅射仪采用微处理器控制。它具有非常高的自动化程度,可以精确控制,并且易于操作。
6、5英寸彩色触摸屏可实时显示真空度、溅射电流、设定溅射时间、剩余溅射时间、膜厚估算等。
7、可溅射金、银、铜、铂等常见靶材。
8、可以实时显示设备的运行时间和目标的使用时间,使设备更容易理解。